18614946868
发布:admin 时间:2024-07-18
三氯氢硅的下游应用,除了对主成分含量有严格的要求,对硼、磷及金属杂质的含量也有相应的技术标准。
三氯氢硅中硼、磷及金属杂质的测量,主要采用电感耦合等离子体质谱仪进行测定(ICP-MS)
其工作原理是:乙腈能与一些金属氯化物生成稳定的络合物,在三氯氢硅中加入乙腈,在常温下,用氮气载带挥
发分离基体,残留的二氧化硅用氢氟酸溶解转化为SE,除去,再用硝酸溶液溶解残渣,溶液用电感耦合等离子体质
谱仪测定。
聚焦行业资讯,实时播报行业动态
公司新闻
更多+行业资讯
更多+三氯氢硅纯度如何重塑半导体制造
在5nm芯片制程突破的今天,三氯氢硅(SiHCl₃)纯度已从99.999%提升至11N级别(即99.999999999%)。这场纳米级的纯度革命直接改变···
新能源汽车领域对四氯化硅的需求增长潜力巨大
在新兴领域中,新能源汽车产业正处于迅猛发展的阶段,其对四氯化硅的需求增长潜力极为可观。近年来,全球新能源汽车市场呈现爆发···
三甲基一氯硅烷(TMCS)——多功能有机硅材料的核心原料
三甲基一氯硅烷(TMCS)——多功能有机硅材料的核心原料三甲基一氯硅烷(Trimethylchlorosilane,简称TMCS)是一种重要的有机硅···
四氯化硅的冷氢化反应
四氯化硅的低温氢化(冷氢化)是一种重要的有机合成反应,可以将酮、醛、羰基化合物等 &nb
四氯化硅的高温氢化
四氯化硅的高温氢化,也称热氢化,是目前处理多晶硅副产物四氯化硅 &
电话咨询
微信咨询
返回顶部